Особенности электронных свойств delta-слоев в эпитаксиальном кремнии. III. Электрон-фононная релаксация
Электpонные свойства металлов и сплавов
DOI:
https://doi.org/10.1063/1.593462Ключові слова:
Анотація
Проведено комплексное исследование эффектов слабой локализации электронов, электрон-электронного взаимодействия и эффекта электронного перегрева в кристаллах Si, содержащих delta - слой с различной концентрацией атомов Sb, с целью получения информации о характерных временах неупругой релаксации электронов. Температурная зависимость времени электрон-фононной релаксации tauep, полученная из эффекта электронного перегрева, описывается зависимостью tauep ~ Tp, где p = 3,7+/-0,3, что соответствует случаю qTl < 1 (qT - волновой вектор вектор теплового фонона; l - длина свободного пробега электрона).Завантаження
Дані завантаження ще не доступні.
Downloads
Опубліковано
1997-04-10
Як цитувати
(1)
Каширин, В. Ю.; Комник, Ю. Ф.; Анопченко, А. С.; Миронов, О. А.; Эмелеус, Ч. Д.; Волл, Т. Э. Особенности электронных свойств delta-слоев в эпитаксиальном кремнии. III. Электрон-фононная релаксация: Электpонные свойства металлов и сплавов. Fiz. Nizk. Temp. 1997, 23, 413-419.
Номер
Розділ
Статті