О влиянии слабой неоднородности туннельного барьера на локализованные состояния, индуцированные сверхпроводящим током в контакте S/I/S
Ключові слова:

Downloads
Опубліковано
1995-06-10
Як цитувати
(1)
Куплевахский, С. В.; Фалько, И. И. О влиянии слабой неоднородности туннельного барьера на локализованные состояния, индуцированные сверхпроводящим током в контакте S/I/S. Fiz. Nizk. Temp. 1995, 21, 613-616.
Номер
Розділ
Статті
Завантаження
Дані завантаження ще не доступні.