Механизмы рассеяния поверхностных электронов в топологических изоляторах

Автор(и)

  • Ю.В. Топоров Киевский национальный университет им. Тараса Шевченко, ул. Владимирская, 60, г. Киев, 01033, Украина
  • А.А. Кордюк Киевский академический университет, бульв. Вернадского, 36, г. Киев, 03142, Украина

DOI:

https://doi.org/10.1063/1.5082322

Ключові слова:

топологический изолятор, ARPES спектр, рассеяние электронов.

Анотація

Особливістю топологічних ізоляторів є наявність електронних топологічно захищених квазічастинкових поверхневих станів, винятково стійких до наявності домішок, однак структуру спектра розсіяння поверхневих квазічастинок вивчено слабко. Мета роботи — визначення структури власної енергії поверхневих станів з аналізу фотоемісійних спектрів. Зокрема, детально досліджено уширення цих станів в залежності від енергії зв’язку у Bi2Se3 та Bi2Te2Se — найбільш досліджених топологічних ізоляторах. Виявлена сходинкова структура уширення дозволила виділити внески пружного та непружного міжзонного розсіяння (поверхня–об’єм) до квазічастинкової власної енергії та показати, що воно порівнянне з пружним внутрішньозонним розсіянням.

Завантаження

Дані завантаження ще не доступні.

Опубліковано

2018-11-16

Як цитувати

(1)
Топоров, Ю.; Кордюк, А. Механизмы рассеяния поверхностных электронов в топологических изоляторах. Fiz. Nizk. Temp. 2018, 45, 134-139.

Номер

Розділ

Квантові ефекти в напівпровідниках та діелектриках