Features of nanocontact formed using point electrical breakdown of a niobium oxide nanolayer
DOI:
https://doi.org/10.1063/10.0025302Ключові слова:
point electrical breakdown, nanobridge, niobium oxide, resistance, breakdown voltage, voltage-current characteristicАнотація
Досліджено електричні характеристики точкової ділянки оксиду ніобію між масивним катодом із надпровідникового сплаву індій–олово та плівкою ніобію до його пробою та наноконтакту, що виникає після пробою оксиду, при кімнатній температурі. Встановлено залежності напруги точкового пробою окислу та опору наноконтактів від способу пробою та товщини окислу в діапазоні 15–60 нм. Зокрема, встановлено мінімальну величину струму пробою (близько 1 мкА), менше якої пробою не виникає. Вольт-амперна характеристика (ВАХ) оксиду має напівпровідниковий характер і свідчить про залежність напруги пробою оксиду від його полярності. ВАХ наноконтакту є нелінійною, що пов’язано з фазовими переходами в матеріалі наноконтакту, зумовленими його нагріванням транспортним струмом.