The effect of H2 pressure on the reduction of CeO2 nanocrystals - Bezkrovnyi , Oleksii; Kraszkiewicz , Piotr; Vorochta , Michael (ФІЗИКА НИЗЬКИХ ТЕМПЕРАТУР, 2025)
Вивчено вплив парціального тиску водню на процеси відновлення наночастинок CeO2. Відновлюваність поверхні CeO2 при впливі 0,01–5 мбар та 5–402 мбар H2 досліджено за допомогою методів NAP-XPS та H2-TPR. Особливу увагу приділено ролі парціального тиску H2 (від 5 до 402 мбар у вхідній газовій суміші) на профіль H2-TPR. Показано та обговорено вплив парціального тиску H2 на перебіг поверхневого та об’ємного відновлення CeO2.